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  • EFF-G系列實驗室玻璃降膜蒸發儀

    實驗室玻璃降膜蒸發儀EFF用于液體混合物的溫和部分蒸發,特別是當工藝要求(如在高蒸發率時保持低工作壓力)超過傳統蒸發器的處理能力時。原料液體由頂部進料位置分批或連續進入蒸發器,通過特殊的物料分配系統以薄膜形式連續均勻地分布在蒸發器加熱管內表面并向下移動。沸點較低的物質從下降的物料膜中蒸發,與剩余的液體一起進入到降膜蒸發器的低部集液器后,以蒸汽的形式被輸送到外部冷凝器冷凝為餾出物液體后流出。

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    產品價格:面議
    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-07-12
  • RF/TEF-KD/SPD-RC系列薄膜與分子蒸餾多級設備

    從實驗室到工業規模的薄膜與分子蒸餾多級設備 ?蒸發面積:0.018m2到80m2 ?真空度:可達0.001 mbar ?蒸餾溫度200℃、250℃、350℃、480℃ ?主要材質:硼硅玻璃、不銹鋼、鈦合金、哈氏合金等

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    產品價格:面議
    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-07-12
  • RF/TFE-RC 系列薄膜與分子精餾設備

    從實驗室到工業規模的薄膜與分子精餾設備,主要特點為:$n●專門為復雜體系熱敏性物質的精細分離而設計$n●型號:RF/TFE15-RC, RF/TFE20-RC, RF/TFE30-RC, RF/TFE50-RC。$n●蒸發面積0.018m2到0.5m2;$n●真空度:可達0.001 mbar$n●蒸餾溫度200℃、250℃、350℃、480℃$n●主要材質:硼硅玻璃、不銹鋼、鈦合金、哈氏合金等

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    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-07-12
  • RF/TFE15-20-30-50薄膜蒸發設備

    從實驗室到工業規模的短程(分子)蒸餾與薄膜蒸發設備 ●型號:RF/TFE15, RF/TFE 20, RF/TFE 30, RF/TFE 50 ●蒸發面積0.018m2到0.5m2 ●真空度:可達0.001 mbar ●蒸餾溫度200℃、250℃、350℃、480℃ ●主要材質:硼硅玻璃、不銹鋼、鈦合金、哈氏合金等

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    產品價格:面議
    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-07-12
  • KD10/SPD-E10中試型不銹鋼薄膜蒸發與分子蒸餾設備

    中試型不銹鋼薄膜蒸發與分子蒸餾設備KD10/SPD-E10,專門為復雜體系熱敏性物質的分離提純而設計的。設備的核心部件為薄膜蒸發與分子蒸餾器KD10/SPD-E10。主要部件包括:薄膜蒸發器、外置冷凝器、冷阱、以及與物料粘度相匹配的成膜系統等。輔助設備包括進料系統、重組分與餾分出料系統、部分與深度冷凝器、真空系統、相應的加熱與冷凝裝置等。

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    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-07-12
  • RF10/TFE10中試型不銹鋼薄膜蒸發儀

    中試型不銹鋼薄膜蒸發儀RF10/TFE10,專門為復雜體系熱敏性物質的分離提純而設計的。設備的核心部件為薄膜分子蒸發器RF10/TFE10。主要部件包括:薄膜蒸發器、外置冷凝器、冷阱、以及與物料粘度相匹配的成膜系統等。輔助設備包括進料系統、重組分與餾分出料系統、部分與深度冷凝器、真空系統、相應的加熱與冷凝裝置等。

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    產品價格:面議
    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-07-12
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